ASML EUV光源突破千瓦，先进芯片产能提升50%

发布时间：昨天 17:07

类别：行业动态

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2026 年 2 月 24 日，荷兰半导体设备龙头 ASML 宣布EUV 极紫外光刻光源实现千瓦级工业突破，成为全球先进制程制造的里程碑事件。该公司将量产机型光源功率从 600 瓦提升至 1000 瓦，单台设备晶圆处理效率提升50%，每小时产能从 220 片增至 330 片，预计 2030 年规模化交付。

此次突破并非简单功率提升，而是底层技术全面革新。核心改进包括：锡滴发生系统喷射频率从每秒 5 万次提升至10 万次，采用双脉冲激光激发等离子体，显著提升光转换效率与长期运行稳定性，攻克高功率 EUV 光源量产可靠性难题。ASML 强调，该系统可直接适配现有高端 EUV 机型，无需重建产线，能快速转化为实际产能。

这一进展直接利好台积电、英特尔、三星等先进制程厂商，有效缓解 2nm 及以下工艺产能紧张，支撑 AI 服务器、自动驾驶、云计算等领域的旺盛需求。随着 AI 算力持续爆发，高端芯片制造瓶颈进一步打开，摩尔定律延续获得关键支撑。

行业数据显示，ASML 当前市值已突破5000 亿美元，2026 年 EUV 交付量预计超 50 台，订单饱满。千瓦级光源技术进一步巩固其在高端光刻领域的领先地位，同时为下一代 1500 瓦光源路线奠定基础，全球先进芯片制造格局将迎来新一轮效率升级。